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      VENA-300

      VENA-300

      詳細介紹

       VENA系列自動匹配器用于真空鍍膜、等離子刻蝕、等離子清洗、物理氣象沉積,化學氣象沉積,磁控濺射,以及太陽能制造設備PECVD等設備當中,主要功能是實現全自動匹配,解決了現在國內真空鍍膜設備中的一個技術空缺;具有自動,快速,可靠,高效,準確,節省人力和時間等特點??蛇x的射頻系統檢測模塊可實時檢測出系統的正反功率、駐波比、射頻信號峰值電壓、電流、直流偏置電壓等,從而使您能夠發現并顯著降低制程變化性。

      優勢

      ●性能安全可靠,長時間工作穩定
      ●實時反射功率測量與控制
      ●優化設計、安裝、使用與維修十分簡便
      ●傳輸效率高,運行噪音小
      ●屏蔽效果好
      ●可外接匹配控制盒,與其他射頻功率發生器配合使用

      特點

      ●加強了鍍膜與刻蝕工藝的控制
      ●優化的匹配算法加速匹配時間
      ●最大限度地減少駐波比與反射功率
      ●嚴格的可靠性測試

      使用參數:

      匹配功率范圍

      0-300W

      工作頻率:

      13.56MHZ

      正常工作反射功率

      <3W

      匹配時間

      <3S

      傳輸效率

      >90%

      匹配器電源

      AC220V/50-60HZ

      輸入連接器

      N型

      輸出連接器

      UHF

      控制模式

      手動/自動

      可設預置點數

      7

      匹配阻抗范圍

      實部0-80Ω 虛部-j200-j200(可根據負載調節阻抗)

      匹配器尺寸

      340X230X130MM

      整機重量

      5.5KG

      冷卻方式

      強制風冷

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